(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222454878.5 (22)申请日 2022.09.16 (73)专利权人 苏州鸣动智能设备有限公司 地址 215200 江苏省苏州市吴江区益胜路 183号 (72)发明人 胡凤鸣　夏笛笛　 (74)专利代理 机构 北京中仟知识产权代理事务 所(普通合伙) 11825 专利代理师 魏磊 (51)Int.Cl. B65G 47/90(2006.01) B65G 47/52(2006.01) (54)实用新型名称 一种陶瓷基 板下料装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种陶瓷基板下料装置， 包括机架； 对陶瓷基板进行移载的移载组件， 所 述移载组件 数量为两组且位于所述机架两端； 对 陶瓷基板进行下料的下料组件， 所述下料组件包 括下料输送线、 位于所述下料输送线上方的横移 模组、 沿所述横移模组长度方向运动的驱动气缸 以及位于 所述驱动气缸活塞 杆端的下料吸块， 所 述下料吸块数量为多个且沿所述下料输送线长 度方向间隔分布。 本实用新型提供一种陶瓷基板 下料装置， 能够对陶瓷基板进行集中化下料操 作， 相较于传统的单片下料方式， 能够极大地提 高对陶瓷基板的下料效率， 保证陶瓷基板后续加 工的连续 性。 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 CN 218087792 U 2022.12.20 CN 218087792 U 1.一种陶瓷基板下 料装置， 其特 征在于， 包括 机架(10)； 对陶瓷基板进行移载的移载组件(20)， 所述移载组件(20)数量为两组且位于所述机架 (10)两端； 对陶瓷基板进行下料的下料组件(30)， 所述下料组件(30)包括下料输送线(31)、 位于 所述下料输送线(31)上方的横移模组(32)、 沿所述横移模组(32)长度方向运动的驱动气缸 (33)以及位于所述驱动气缸(33)活塞 杆端的下料吸块(34)， 所述下料吸块(34)数量为多个 且沿所述下 料输送线(31)长度方向间隔分布。 2.根据权利要求1所述的陶瓷基板下料装置， 其特征在于， 所述移载组件(20)包括移载 模组(21)、 沿所述移载模组(21)长度方向运动的移载气缸(22)以及位于所述移载气缸(22) 活塞杆端的移载块(23)， 所述移载块(23)为真空吸附块。 3.根据权利要求2所述的陶瓷基板下料装置， 其特征在于， 所述机架(10)端部设置有料 块(40)， 所述料块(40)内装有待下料的陶瓷基板， 所述料块(40)位于所述移载块(23)的移 载区域范围内。 4.根据权利要求1所述的陶瓷基板下料装置， 其特征在于， 所述下料输送线(31)数量为 两组且与所述移载 组件(20)一一对应， 所述下料输送线(31)通过对接输送线(50)与所述移 载组件(20)对接 。 5.根据权利要求4所述的陶瓷基板下料装置， 其特征在于， 所述对接输送线(50)的出料 端与所述下 料输送线(31)的进料端重 叠。 6.根据权利要求4所述的陶瓷基板下料装置， 其特征在于， 所述下料输送线(31)与所述 对接输送线(5 0)均为皮带输送线。 7.根据权利要求1所述的陶瓷基板下料装置， 其特征在于， 所述下料输送线(31)固定于 所述机架(10)上， 所述横移模组(32)通过支撑块与所述机架(10)连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218087792 U 2一种陶瓷基板下 料装置 技术领域 [0001]本实用新型属于陶瓷基板下 料技术领域， 尤其涉及一种陶瓷基板下 料装置。 背景技术 [0002]陶瓷基板是指铜箔在高温下直接键合到氧化铝或氮化铝陶瓷基片表面(单面或双 面)上的特殊工艺板。 所制成的超薄复合基板具有优良电绝缘性能， 高导热特性， 优异的软 钎焊性和高的附着强度， 并可像PCB板一样能刻蚀出 各种图形， 具有很大的载流能力。 [0003]陶瓷基板在生产加工过程中， 需要对其进行集中的下料操作， 而现有的下料装置， 往往是对陶瓷基板进行单片下料， 即采用机械手或其他抓取结构对陶瓷基板进行单片抓 取， 这种下料方式无法对陶瓷基板进 行多片同时下料， 导致下料效率低下， 影响 陶瓷基板后 续加工。 实用新型内容 [0004]本实用新型克服了现有技术的不足， 提供一种陶瓷基板下料装置， 以解决现有技 术中存在的问题。 [0005]为达到上述目的， 本实用新型采用的技 术方案为： 一种陶瓷基板下 料装置， 包括 [0006]机架； [0007]对陶瓷基板进行移载的移载组件， 所述移载组件数量为两组且位于所述机架两 端； [0008]对陶瓷基板进行下料的下料组件， 所述下料组件包括下料输送线、 位于所述下料 输送线上方的横移模组、 沿所述横移模组长度方向运动的驱动气缸以及位于所述驱动 气缸 活塞杆端的下 料吸块， 所述下 料吸块数量 为多个且沿所述下 料输送线长度方向间隔分布。 [0009]本实用新型一个较佳实施例中， 所述移载组件包括移载模组、 沿所述移载模组长 度方向运动的移载气缸以及位于所述移载气缸活塞杆端的移载块， 所述移载块为真空吸附 块。 [0010]本实用新型一个较佳实施例中， 所述机架端部设置有料块， 所述料块内装有待下 料的陶瓷基板， 所述料块 位于所述移载块的移载区域范围内。 [0011]本实用新型一个较佳实施例中， 所述下料输送线数量为两组且与所述移载组件一 一对应， 所述下 料输送线通过对接 输送线与所述移载组件 对接。 [0012]本实用新型一个较佳实施例中， 所述对接输送线的出料端与所述下料输送线的进 料端重叠。 [0013]本实用新型一个较佳实施例中， 所述下料输送线与所述对接输送线均为皮带输送 线。 [0014]本实用新型一个较佳实施例中， 所述下料输送线固定于所述机架上， 所述横移模 组通过支撑块与所述机架连接 。 [0015]本实用新型解决了背景技 术中存在的缺陷， 本实用新型 具备以下有益效果：说　明　书 1/4 页 3 CN 218087792 U 3