(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210812268.X (22)申请日 2022.07.11 (71)申请人 诺丁汉大 学卓越灯塔计划 （宁波） 创 新研究院 地址 315048 浙江省宁波市 鄞州区星光路 211号 申请人 宁波诺丁汉大 学 (72)发明人 王静　潘晗　张紫君　王成波　 任勇　理查德·史密斯　 (74)专利代理 机构 宁波市甬远专利代理有限公 司 33409 专利代理师 沈春红 (51)Int.Cl. C03C 25/68(2006.01) G01N 21/01(2006.01) (54)发明名称 一种用于光纤去包层、 表 面处理的反应池及 封装该光纤模块的流动池 (57)摘要 一种用于光纤去包层、 表 面处理的反应池及 封装该光纤模块的流动池， 包括光纤固定块和反 应槽； 所述的光纤固定块包括位于上部的夹持部 和位于下部的反应部， 所述的夹持部和所述的反 应部的侧壁 设置有容置光纤的凹槽， 所述的凹槽 内封装有光纤， 所述的光纤自凹槽延伸至反应部 的下底部， 且 下底部的光纤凸出于反应部的下底 面； 所述的反应槽上设置有容置处理液的容置 腔， 所述的容置腔的开口与所述夹持部和反应部 的连接处的外轮廓相适配； 本申请的方案具有可 以实现工作段的有效处理控制， 而且能有效保护 去包层后的纤芯， 能够实现高精准、 低成本、 易操 作且高化学稳定性， 有利于提高光纤技术和微流 控技术的结合， 提供安全、 稳定、 可重复使用的优 点。 权利要求书1页 说明书8页 附图7页 CN 115073022 A 2022.09.20 CN 115073022 A 1.一种用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征在于： 该结构包括光纤固定块和反 应槽； 所述的光纤固定块包括位于上部的夹持部和位于下部的反应部， 所述的夹持部和所 述的反应部的侧 壁设置有容置光纤的凹槽， 所述的凹槽内封装有光纤， 所述的光纤自凹槽 延伸至反应部的下底部， 且下底部的光纤凸出于反应部的下底面； 所述的反应槽上设置有 容置处理液的容置腔， 所述的容置腔的开口与所述夹持部和反应部的连接处的外轮廓相适 配。 2.根据权利要求1所述的用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征在于： 所述的光 纤固定块呈扁平结构， 所述的光纤位于该光纤固定块 窄边所在的侧面上。 3.根据权利要求1所述的用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征在于： 所述的反 应部呈立体梯形 结构， 且反应部与夹持部的连接处的横截面积大于反应部底部的面积。 4.根据权利要求3所述的用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征在于： 所述的反 应部的底面的延伸长度与光纤的工作段的长度等长 。 5.根据权利要求1所述的用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征在于： 所述的凹 槽为弧形凹槽， 且所述的凹槽的深度不小于光纤的直径； 所述的反应部的延伸长度不大于 容置腔的深度。 6.根据权利要求1所述的用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征在于： 所述的凹 槽内设置的封胶， 所述的封胶用于光纤的固定； 所述的凹槽位于其所在侧面的居中位置 。 7.根据权利要求1 ‑6任一权利要求所述的用于光纤去包层、 表面处理的反应池， 其特征 在于： 所述的夹持部的长为20 ‑21mm、 宽为8 ‑9mm， 高为8 ‑12mm， 反应部的下底面的长为9 ‑ 11mm， 宽为3.0 0mm， 高为4.5‑5.5mm， 梯形倾角： 3 0度。 8.一种封装光纤模块的流动池， 其特征在于： 该流动池包括相互结合的上盖板和底座， 所述的上盖板上设置有用于光纤固定块容置的容置槽， 所述的底座上设置有微流控通道， 所述的容置槽与所述的微流控通道对正并相互连通， 且所述的容置槽与反应部的外轮廓相 适配。 9.根据权利要求8所述的封装光纤模块的流动池， 其特征在于： 所述的容置槽至少设置 有两个， 且所述的至少 两个容置槽沿着上盖板的宽度方向并排设置； 所述的微流控通道在 底座横向面内呈S型分布， 且微流控通道的进出 口位于底座的同一侧； 所述的光纤固定块、 反应槽和流动池均采用聚四氟乙烯制备而成。 10.根据权利要求9所述的封装光纤模块的流动池， 其特征在于： 所述的容置槽设置有 四个， 且所述的四个容置槽沿着上盖板的宽度方向并排设置； 所述的容置槽上 的光纤固定 块内的光纤为彼此相互连接的一根光纤或者单独连接的独立光纤或者彼此相互并联； 所述 的光纤固定块内的光纤的输入端连接光源、 输出端连接光谱分析仪器， 光谱分析仪器的输 出端与电脑连接 以用于数据的收集和处理； 或者所述的光纤固定块内的光纤与解调仪连 接、 所述的解调仪与电脑电连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115073022 A 2一种用于光纤 去包层、 表面处理的反 应池及封 装该光纤模块 的流动池 技术领域 [0001]本申请涉及光纤表层处理和应用的技术领域， 具体是指一种用于光纤去包层、 表 面处理的反应池及封装该光纤模块的流动池。 技术背景 [0002]光纤基本结构由纤芯和包层构成的同心玻璃体， 呈柱状； 在石英系光纤中纤芯是 由高纯度二氧化硅SiO2(石英玻璃)和少量掺杂剂如五氧化二磷和二氧化锗构成， 掺杂剂用 来提高纤芯的折射率(n1)， 光纤的外径一般是125 ‑140 μm， 芯径(纤芯)一般为3 ‑100 μm； 而光 纤多是在一些精密的检测仪器中使用， 特别在灵敏反应设备中的使用， 需要将光纤的工作 段进行去包层的处理， 从而露出纤芯以满足精密仪器的检测需要； 目前， 常见的光纤去包层 的处理方法是将需处理的光纤段放入40％氟化氢溶液内浸泡约30min左右， 后对去包层后 的光纤段进行多次清洗并用惰性气体干燥， 待后续操作使用。 [0003]然而， 上述传统的光纤包层处理方法在操作 中存在两大隐患： 包层的去除需要使 用具有超强腐蚀性的强酸及去包层后极易断的纤芯； 使用强酸的过程需确保操作过程的安 全性， 又因该强酸具有挥发性， 因此去包层的操作除需在通风橱中进 行， 也需在相对密闭的 环境中进行； 去包层后的单模纤芯直径仅在8 ‑10 μm， 在用于后续操作时， 需确保在光纤的移 动拿取过程中不会断裂， 稍有不慎就可能导 致纤芯的损伤或者断裂。 发明内容 [0004]本申请针对现有技术的上述不足， 提供一种能够实现精准功能化的反应装置， 可 以实现工作段的有效处理控制， 而且能有效保护去包层后的纤芯， 能够实现高精准、 低成 本、 易操作且高化学稳定性， 有利于提高光纤技术和微流控技术的结合， 提供安全、 稳定、 可 重复使用的用于光纤去包层、 表面处 理的反应池。 [0005]为了解决上述技术问题， 本申请采用的技术方案为： 一种用于光纤去包层、 表面处 理的反应池， 该结构包括光纤固定块和反应槽； 所述的光纤固定块包括位于上部的夹持部 和位于下部的反应部， 所述的夹持部和所述的反应部的侧 壁均设置有容置光纤的凹槽， 所 述的凹槽内封装有光纤， 所述的光纤自凹槽延伸至反应部的下底部， 且下底部的光纤凸出 于反应部的下底面； 所述的反应槽上设置有容置处理液 的容置腔， 所述的容置腔的开口与 所述夹持部和反应部的连接处的外轮廓相适配。 [0006]采用上述结构， 本申请在光纤包层处理过程中， 把光纤封装固定于光纤固定块上， 这样在整个处理过程及后续的光纤移动过程， 不需要将任何夹具或者手指直接作用于光 纤， 而是作用于光纤固定块上即可， 因此避免了对光纤的损伤， 保证光纤在 包层处理和移动 过程不会断裂、 不会损伤； 此外， 本申请在光纤固定块的侧面设置了凹槽， 从而可以使得光 纤凹陷于该凹槽内， 与其他部件之间不需要直接接触或者令光纤遭到挤压， 因此进一步的 有效保护了光纤的完整性； 另， 本申请将需要去包层的工作段置于 反应部的下底面， 这样就说　明　书 1/8 页 3 CN 115073022 A 3