(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202222196793.1 (22)申请日 2022.08.19 (73)专利权人 江西兆驰半导体有限公司 地址 330096 江西省南昌市南昌 高新技术 产业开发区天祥北 大道1717号 (72)发明人 黄苏苏　任想想　林冠宏　范绅钺　 崔思远　文国昇　金从龙　 (74)专利代理 机构 北京清亦华知识产权代理事 务所(普通 合伙) 11201 专利代理师 何世磊 (51)Int.Cl. B08B 1/02(2006.01) B08B 5/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) B65G 47/91(2006.01) (54)实用新型名称 一种用于软膜托环的自动清洁机 (57)摘要 本实用新型提供一种用于软膜托环的自动 清洁机， 用于清洗托环， 所述用于软膜托环的自 动清洁机包括工作台以及设于工作台上的待清 洁区、 清洁区及清洁完成区， 待清洁区包括第一 外罩以及设于第一外罩内的第一承台， 清洁 区包 括第二外罩 以及设于第二外罩内的自动清洗装 置， 待清洁 区包括第三外罩以及设于第三外罩内 的第二承台； 工作台的一侧设有自动吸取装置， 自动吸取装置用于将待清洁区中待清洗的托环 转运至清洁 区中进行自动清洗， 并由自动清洗装 置对托环自动清洗后， 再将清洗完毕后的托环从 清洁区中转运至清洁完成区中进行叠放存储。 解 决了现有技术中采用人工管理的方式控制对托 环的清洗， 导致耗费人力、 清洁质量有差异且效 率低的技 术问题。 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 CN 217774910 U 2022.11.11 CN 217774910 U 1.一种用于软膜托环的自动清洁机， 用于清洗托环， 其特征在于， 所述用于软膜托环的 自动清洁机包括工作台 以及设于所述工作台上 的待清洁区、 清洁区及清洁完成区， 所述待 清洁区包括第一外罩以及设于所述第一外罩内的第一承台， 所述第一承台用于叠放待清洗 的托环， 所述清洁区包括第二外罩以及设于所述第二外罩内的自动清洗装置， 所述清洁完 成区包括第三外罩以及设于所述第三外罩内的第二承台， 所述第二承台用于叠放已清洗的 托环； 所述工作台的一侧设有自动吸取装置， 所述自动吸取装置用于将所述待清洁区中待清 洗的托环转运至所述清洁区中， 并由所述自动清洗装置对托环自动清洗后， 再将清洗完毕 后的托环从所述清洁区中转 运至所述清洁完成区中进行叠放存 储。 2.根据权利要求1所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述第 一外罩的内 侧壁上自下而 上设有多个第一感应器， 所述第一感应器具有位于所述托环相对两侧 第一传 感器和第一接收器。 3.根据权利要求1所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述自动清洗装置 包括旋转组件和清洗组件， 所述旋转组件包括设于所述第二外罩内的伺服电机、 连接所述 伺服电机的转盘、 设于所述转盘上 的卡爪以及与所述卡爪连接驱动气缸， 所述驱动气缸用 于驱使所述 卡爪沿所述 托环的径向对其 卡紧或松放； 所述清洗组件包括转动设于所述第 二外罩上端面上的第 一转臂和第 二转臂， 所述第 一 转臂的端部设有清洁棉， 所述第二 转臂的端部设有氮气喷 嘴。 4.根据权利要求3所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述第 二外罩的内 侧壁上设有第二传感器， 所述第二传感器与所述 卡爪对应设置 。 5.根据权利要求1所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述第 二外罩的内 腔底面设有排污口。 6.根据权利要求1所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述自动吸取装置 包括驱动组件和吸取组件， 所述驱动组件包括导轨以及滑动连接所述导轨的滑动支架， 所 述滑动支架 通过第一丝杆传动装置驱动沿着所述导轨的长度方向往复滑动， 所述滑动支架 上滑动连接有一支撑臂， 所述支撑臂通过第二丝杆传动装置驱动沿着所述滑动支架的竖直 方向往复滑动； 所述吸取组件包括设于所述支撑臂端部的取环吸盘以及设于所述取环吸盘上的多个 吸嘴。 7.根据权利要求6所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述第 一丝杆传动 装置包括第一丝杆和 第一驱动电机， 所述第一丝杆连接所述滑动支架且与所述导轨相互平 行设置， 所述第一驱动电机连接所述第一丝杆的一端以驱使所述第一丝杆转动； 所述第二丝杆传动装置包括第二丝杆和第二驱动电机， 所述第二丝杆连接所述支撑 臂， 所述第二丝杆沿所述滑动支架的竖直方向设置， 所述第二驱动电机连接所述第二丝杆 的一端以驱使所述第二丝杆转动。 8.根据权利要求1所述的用于软膜托环的自动清洁机， 其特征在于， 所述清洁完成区与 所述待清洁区的结构相同。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217774910 U 2一种用于软膜托 环的自动清洁机 技术领域 [0001]本实用新型自动化 技术领域， 特别涉及一种用于软膜托环的自动清洁机 。 背景技术 [0002]在集成电路制造领域， 光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜版 上转移到晶圆(wafer)上， 其中的光刻掩膜版(mask)， 也称为光刻版、 掩膜版或者光罩， 是一 种对于曝光光线 具有透光性的平板， 其上具有对于曝光光线 具有遮光性的至少一个几何图 形， 所述几何图形为设计图形， 可实现有选择的遮挡照射到晶片表 面光刻胶上的光， 并最 终 在晶圆表面的光刻 胶上形成相应的图案 。 [0003]在现有的彩膜基板制程工艺中， 通常通过曝光机实现彩膜的图案化， 而使用最多 的是接近式曝光机。 此种曝光机的掩膜板与被曝光基板之间的距离较小， 微小的距离造成 掩膜板极易被曝光基板上的附着异物污染， 或者由于长时间曝光被光阻胶曝光时的挥发物 污染， 而一 旦掩膜板被污染， 将造成共通 缺陷， 严重影响产品质量。 [0004]现有技术当中， 掩膜板包括托环以及设于托环上的掩膜， 其中， 掩膜为一次性用 品， 印完图形后即可丢弃， 而用于承载掩膜的托环可清洗后循环利用， 目前对托环普遍采用 人工管理的方式对其进行定期清洗， 导 致清洗耗费人力、 清洁质量有差异且效率低。 实用新型内容 [0005]基于此， 本实用新型的目的是提供一种用于软膜托环的自动清洁机， 用于解决现 有技术中采用人工管理的方式控制对托环的清洗， 导致耗费人力、 清洁质量有差异且效率 低的技术问题。 [0006]本实用新型提出一种用于软膜托环的自动清洁机， 用于清洗托环， 所述用于软膜 托环的自动清洁机包括工作台 以及设于所述工作台上 的待清洁区、 清洁区及清洁完成区， 所述待清洁区包括第一外罩以及设于所述第一外罩内的第一承台， 所述第一承台用于叠放 待清洗的托环， 所述清洁区包括第二外罩以及设于所述第二外罩内的自动清洗装置， 所述 清洁完成区包括第三外罩以及设于所述第三外罩内的第二承台， 所述第二承台用于叠放已 清洗的托环； [0007]所述工作台的一侧设有自动吸取装置， 所述自动吸取装置用于将所述待清洁区中 待清洗的托环转运至所述清洁区中， 并由所述自动清洗装置对托环自动清洗后， 再将清洗 完毕后的托环从所述清洁区中转 运至所述清洁完成区中进行叠放存 储。 [0008]上述用于软膜托环的自动 清洁机， 通过自动吸取装置将待清洁区中待清洗的托环 转运至清洁区中进行自动清洗， 再将清洗完毕后的托环从所述清洁区中转运至清洁完成区 中进行叠放存储， 生产人员可在清洁完成区直接拿取使用， 替代了传统手动清洗托环的方 案， 解决了现有技术中采用人工管理的方式控制对托环的清洗， 导致耗费人力、 清洁质量有 差异且效率低的技 术问题。 [0009]进一步地， 所述用于软膜托环的自动 清洁机， 其中， 所述第一外罩的内侧壁上自下说　明　书 1/5 页 3 CN 217774910 U 3