(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202211125413.3 (22)申请日 2022.09.16 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 115193817 A (43)申请公布日 2022.10.18 (73)专利权人 帝京半导体科技 （苏州） 有限公司 地址 215000 江苏省苏州市高新区竹园路 209号4号楼8楼80 3-2 (72)发明人 黎纠　张路强　徐亚彬　 (74)专利代理 机构 杭州知杭知识产权代理事务 所(普通合伙) 33310 专利代理师 夏艳 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 3/08(2006.01)B08B 3/04(2006.01) B08B 3/10(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) F26B 21/00(2006.01) (56)对比文件 CN 110449407 A,2019.1 1.15 CN 215785 344 U,2022.02.11 CN 114256107 A,202 2.03.29 CN 1020972 93 A,201 1.06.15 JP H10154689 A,19 98.06.09 CN 112170370 A,2021.01.0 5 US 2003165756 A1,2003.09.04 CN 208427464 U,2019.01.25 审查员 叶映芳 (54)发明名称 半导体设备不锈钢零部件超高洁清洗装置 及工艺 (57)摘要 本发明提供了半导体设备不锈钢零部件超 高洁清洗装置及工艺， 涉及清洗装置技术领域， 包括切换 组件， 所述支撑架转动连接在通道支撑 柱的中部,桌面组件和切换 组件的配合使用大大 降低了该装置的占用空间， 工作人员无需在各个 液体箱之间奔走清洗， 而是通过调节五个切换液 体箱的使用位置即可实现对半导体不锈钢零部 件的逐步清洗， 使用方便灵活， 清洗效果和工作 效率大大提高， 解决了 现有清洗装置由于清洗池 的数目多导致清洗设备占用空间较大， 工作人员 需要往复奔走在各个清洗池之间对半导体不锈 钢零部件进行逐步清洗， 步骤繁琐， 劳动强度大 的问题。 权利要求书3页 说明书6页 附图4页 CN 115193817 B 2022.12.27 CN 115193817 B 1.半导体设备不锈钢零部件超高洁清洗装置， 其特征在于， 包括： 桌面组件 （1） ， 所述桌 面组件 （1） 包括有操作台 （101） 、 纯水池组 （102） 、 超声波清洗机 （103） 、 超声波热水池 （104） 和氮气吹扫炉 （105） ， 所述纯水池组 （102） 固定安装在操作台 （101） 的中部， 所述纯水池组 （102） 由纯水池a （1021） 、 纯水池b （1022） 、 纯水池c （1023） 、 纯水池d （1024） 、 纯水池e （1025） 和纯水池f （1026） 组成， 且超声波清洗机 （103） 固定安装在操作台 （101） 的顶部， 所述超声波 热水池 （104） 固定安装在操作台 （101） 的顶部， 且氮气吹扫炉 （105） 固定安装在操作台 （101） 的顶部， 所述超声波清洗机 （103） 、 超声波热水池 （104） 和氮气吹扫炉 （105） 环绕排列在纯水 池组 （102） 的侧面； 功能组件 （2） ， 所述功能组件 （2） 包括有通道支撑柱 （201） 、 喷水枪 （202） 和氮气喷枪 （203） ， 所述通道支撑柱 （201） 固定安装在操作台 （101） 一侧的内部， 所述喷水枪 （202） 通过 连接管与通道支撑柱 （201） 的顶部连接， 且氮气喷枪 （203） 通过另一个连接管与通道支撑柱 （201） 的顶部连接； 切换组件 （3） ， 所述切换组件 （3） 包括有支撑架 （301） 、 切换液体箱 （302） 和驱动电机 （303） ， 所述支撑架 （301） 转动 连接在通道支撑柱 （201） 的中部， 且切换液体箱 （302） 固定安 装在支撑架 （3 01） 的侧面， 所述驱动电机 （3 03） 固定安装在操作台 （101） 的底部； 所述切换液体箱 （302） 内部设有阀门机构 （4） ， 且阀门机构 （4） 由封堵板 （401） 和调节螺 杆 （402） 组成， 调节螺杆 （402） 转动 连接在切换液体箱 （302） 的内部， 且调节螺杆 （402） 通过 杆体螺纹拧接在封堵板 （401） 的顶部； 所述封堵板 （401） 的截面形状为 “L”形， 且切换液体箱 （302） 的内部设有液体通道 （3021） ， 封堵板 （401） 的立板插接在液体通道 （3 021） 的内部； 所述通道支撑柱 （201） 的内部分别设有供水通道 （2012） 和氮气通道 （2013） ， 且供水通 道 （2012） 和氮气通道 （2013） 为对称设计， 供水通道 （2012） 与通道支撑柱 （201） 顶部的喷水 枪 （202） 的连接管连接， 且氮气通道 （2013） 与通道支撑柱 （201） 顶部的氮气喷枪 （203） 的连 接管连接。 2.如权利要求1所述半导体设备不锈钢零部件超高洁清洗装置， 其特征在于： 所述支撑 架 （301） 的底部设有切换齿盘 （3011） ， 且驱动电机 （303） 的顶部设有驱动齿轮 （3031） ， 且驱 动齿轮 （3 031） 与切换齿盘 （3 011） 的轮齿咬合传动。 3.如权利要求1所述半导体设备不锈钢零部件超高洁清洗装置， 其特征在于： 所述支撑 架 （301） 的外侧设有五个连接柱 （3012） ， 且相邻连接柱 （3012） 之间的夹角角度为七十二度， 切换液体箱 （302） 设有五个， 且五个切换液体箱 （302） 分别固定安装在五个连接柱 （3012） 的 外部。 4.如权利要求3所述半导体设备不锈钢零部件超高洁清洗装置， 其特征在于： 每个所述 连接柱 （3012） 的内部均设有连通通道 （30121） ， 且支撑架 （301） 的内部设有环形的排液通道 （3013） ， 连通通道 （30121） 的一端与液体通道 （3021） 连通， 且连通通道 （30121） 的另一端与 排液通道 （3013） 的顶部连通， 通道支撑柱 （201） 的中部设有承接通道 （2011） ， 且承接通道 （2011） 的顶部与排液通道 （3 013） 的底部连通。 5.如权利要求1所述半导体设备不锈钢零部件超高洁清洗装置的使用方法， 其特征在 于： 包括以下步骤： 通过操作台 （101） 顶部的清洗缺口将碱蚀溶液、 盐酸溶液、 酸蚀溶液和酸洗溶液分别倒权　利　要　求　书 1/3 页 2 CN 115193817 B 2入四个切换 液体箱 （3 02） 的内部； 切换组件 （3） 能够改变各个切换液体箱 （302） 的使用位置， 当驱动电机 （303） 转动时， 驱 动电机 （303） 的驱动齿轮 （3031） 能够通过切换齿盘 （3011） 带动支撑架 （301） 转动， 从而支撑 架 （301） 转动时能够带动五个切换液体箱 （302） 同步同向的转动， 实现了切换液体箱 （302） 改变使用位置的功能， 从而在 使用时只需将所需的切换液体箱 （302） 调节至纯水池组 （102） 的旁边即可实现对半导体不锈钢零部件进行不同的清洗 工序； 操作台 （101） 能够将工作人员环绕在操作台 （101） 的中央进行半导体不锈钢零部件 的 清洗作业， 其中纯水池组 （102） 位于工作人员的旁边， 且超声波清洗机 （103） 、 超声波热水池 （104） 和氮气吹扫炉 （105） 环绕排列在工作人员的周围， 从而 方便工作人员在超声波清洗机 （103） 、 超声波热水池 （104） 、 氮气吹扫炉 （10 5） 和纯水池组 （102） 之间切换使用； 通道支撑柱 （201） 内部的供水通道 （2012） 能够为喷水枪 （202） 提供清洗水体， 同时氮气 通道 （2013） 能够为氮气喷枪 （20 3） 提供清洗气体； 将半导体不锈钢零部件放入装有活性剂的超声波清洗机 （103） 内清洗， 且清洗时间在 1‑30分钟， 清洗温度在3 0‑80℃， 活性剂浓度为2 ‑40%v/v， 碱性脱脂剂浓度为20 ‑50g/L； 将半导体设备不锈钢零部件放入纯 水池a （1021） 进行第一次过 滤清洗； 将清洗后的半导体不锈钢零部件放入盛有碱蚀溶液的切换液体箱 （302） 的内部进行碱 蚀处理； 将半导体设备不锈钢零部件放入纯水池c （1023） 进行第二次过滤清洗， 去除零部件表 面残留药 水； 将清洗后的半导体不锈钢零部件放入盛有盐酸溶液的切换液体箱 （302） 的内部进行盐 酸处理； 将半导体设备不锈钢零部件放入纯水池d （1024） 进行第三次过滤清洗， 去除零部件表 面残留药 水； 将清洗后的半导体不锈钢零部件放入盛有酸蚀溶液的切换液体箱 （302） 的内部进行酸 蚀处理； 将半导体设备不锈钢零部件放入纯水池e （1025） 进行第四次过滤清洗， 去除零部件表 面残留药 水； 将清洗后的半导体不锈钢零部件放入盛有酸洗溶液的切换液体箱 （302） 的内部进行酸 洗处理； 将半导体设备不锈钢零部件放入纯水池f （1026） 进行第五次过滤清洗， 去除零部件表