(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123360430.9 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 黄冈市楚雄 化工股份有限公司 地址 438000 湖北省黄冈市黄州区火车站 化工园、 1幢 (72)发明人 李鑫　 (74)专利代理 机构 无锡风创知识产权代理事务 所(特殊普通 合伙) 32461 专利代理师 单虎 (51)Int.Cl. B01J 19/00(2006.01) B08B 9/087(2006.01) (54)实用新型名称 一种便于清理的反应釜 (57)摘要 本实用新型提供一种便于清理的反应釜， 涉 及反应釜技术领域。 该xxx便于清理的反应釜， 包 括罐体， 罐体的底面固定安装有四个支架， 所述 罐体的内部设有齿圈， 齿圈的底 面固定安装有转 环， 转环与罐体的内壁转动连接， 罐体的内壁位 于转环的下方设有刮圈， 刮圈相对于罐体的内壁 上下滑动连接， 刮圈的上表面固定安装有多个凸 块A， 转环的底面固定安装有多个凸块B， 凸块A与 凸块B交错 设置， 罐体的上端插接有两个转轴。 该 便于清理的反应釜， 通过设置转轴、 齿圈和刮板， 可以增大刮板的刮除范围， 同时刮圈可以将刮板 刮到高处的赃物处理掉， 达到了方便处理反应釜 内部赃物的效果， 解决了 现有技术的反应釜难以 清洗的问题。 权利要求书1页 说明书3页 附图4页 CN 216910253 U 2022.07.08 CN 216910253 U 1.一种便于清理的反应釜， 包括罐体(1)， 罐体(1)的底面固定安装有四个支架(2)， 其 特征在于： 所述罐体(1)的内部设有齿圈(3)， 齿圈(3)的底面固定安装有转环(4)， 转环(4) 与罐体(1)的内壁转动连接， 罐体(1)的内壁位于转环(4)的下方设有刮圈(5)， 刮圈(5)相对 于罐体(1)的内壁上下滑动连接， 刮圈(5)的上表 面固定安装有多个凸块A(6)， 转环(4)的底 面固定安装有多个凸块B(7)， 凸块A(6)与凸块B(7)交错设置， 罐体(1)的上端插接有两个转 轴(8)， 两个转轴(8)均与罐体(1)转动连接， 转轴(8)位于罐体(1)外部的一端固定安装有把 手(9)， 两个转轴(8)位于罐体(1)内部的一端固定安装有锥齿轮(10)， 两个锥齿轮(10)均位 于齿圈(3)的上方并与齿圈(3)啮合， 齿圈(3)的内壁固定安装有两个销轴(11)， 销轴(11)的 外部套接有两个卡环(12)， 下方的卡环(12)与销轴(11)的底端 固定连接， 上方的卡环(12) 与销轴(11)滑动 连接， 销轴(11)的外部位于两个卡环(12)之间固定安装有限位圈(13)， 销 轴(11)的外部位于限位圈(13)的上方套接有弹簧(14)， 弹簧(14)的上端与上方的卡环(12) 底面固定连接， 弹簧(14)的下端与限位圈(13)固定连接， 两个卡环(12)远离销轴(11)的一 侧设有刮板(15)， 刮板(15)与上方的卡环(12)固定连接， 刮板(15)与下方的卡环(12)滑动 连接， 刮板(15)的上端与刮圈(5)的底面接触。 2.根据权利要求1所述的一种便于清理的反应釜， 其特征在于： 所述罐体(1)的内部内 壁设有卡圈(16)， 卡圈(16)的外壁与罐体(1)的内壁固定连接， 转环(4)的外圆卡接在卡圈 (16)的内部， 转环(4)相对于卡圈(16)转动。 3.根据权利要求1所述的一种便于清理的反应釜， 其特征在于： 所述凸块A(6)等距离排 列分布， 凸块B(7)等距离排列分布， 凸块A(6)与凸块B(7)靠 近的一端为弧形 结构。 4.根据权利 要求1所述的一种便于清理的反应釜， 其特征在于： 所述转轴(8)与罐体(1) 垂直， 转轴(8)与罐体(1)的转动连接处安装有轴承， 两个转轴(8)对称设置， 两个转轴(8)位 于同一条直线上。 5.根据权利要求1所述的一种便于清理的反应釜， 其特征在于： 所述销轴(11)竖向设 置， 两个销轴(11)等距离一百八十度对称设置， 两个销轴(11)的上端位于齿圈(3)内， 两个 转销轴(1 1)的下端均延伸至罐体(1)的内部 。 6.根据权利要求1所述的一种便于清理的反应釜， 其特征在于： 所述刮板(15)与销轴 (11)平行设置， 刮板(15)与罐体(1)的内壁接触。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216910253 U 2一种便于 清理的反 应釜 技术领域 [0001]本实用新型 涉及反应釜技 术领域， 具体为 一种便于清理的反应釜。 背景技术 [0002]反应釜即为化学反应或物理反应的容器， 通过对反应釜的结构设计和参数配置， 可实现工艺要求的加热、 蒸发、 冷却等功能。 反应釜广泛应用于石油、 化工、 医药及冶金等领 域， 反应釜的材质一般有碳 猛钢、 不锈钢、 镍基合金及其它复合材 料等。 [0003]反应釜内的反应时间持续较长后， 反应釜的内壁上会形成一层结晶层， 所述结晶 层若不进行清洗， 将可能会影响下一轮不同反应物之间的反应的顺利进行， 因此操作人员 需要时常对反应釜进 行清洗。 然而， 现有的反应釜通常为一个一体成型的容器， 且所述一体 成型的容器的体积通常比较大， 而为了反应物不溅出至反应釜外伤害 旁人或保证反应釜内 的气压环境的原因， 反应釜上通常只设一个较小的开口， 而反应釜较大 的体积及其较小的 开口通常会导 致清洗困难。 实用新型内容 [0004](一)解决的技 术问题 [0005]针对现有技术的不足， 本实用新型提供了一种便于清理的反应釜， 解决了现有技 术的反应釜难以清洗的问题。 [0006](二)技术方案 [0007]为实现以上目的， 本实用新型通过以下技术方案予以实现： 一种便于清理的反应 釜， 包括罐体， 罐体的底面固定安装有四个支架， 所述罐体的内部设有齿圈， 齿圈的底面固 定安装有转环， 转环与罐体的内壁转动连接， 罐体的内壁位于转环的下方设有刮圈， 刮圈相 对于罐体的内壁上下滑动连接， 刮圈的上表面固定安装有多个凸块A， 转环的底面固定安装 有多个凸块B， 凸块A与凸块B 交错设置， 罐体的上端插接有两个转轴， 两个转轴均与罐体转 动连接， 转轴位于罐体外部的一端固定安装有把手， 两个转轴位于罐体内部的一端固定安 装有锥齿轮， 两个锥齿轮均位于齿圈的上方并与齿圈啮合， 齿圈的内壁固定安装有两个销 轴， 销轴的外部套接有两个卡环， 下方的卡环与销轴的底端固定连接， 上方的卡环与销轴滑 动连接， 销轴的外部位于两个卡环之间固定安装有限位圈， 销轴的外部位于限位圈的上方 套接有弹簧， 弹簧的上端与上方的卡环底面固定连接， 弹簧的下端与限位圈固定连接， 两个 卡环远离销轴的一侧设有刮板， 刮板与上方的卡环固定连接， 刮板与下方的卡环滑动连接， 刮板的上端与刮圈的底面接触。 [0008]优选的， 所述罐体的内部内壁设有卡圈， 卡圈的外壁与罐体的内壁固定连接， 转环 的外圆卡接在卡圈的内部， 转环相对于卡圈转动。 [0009]优选的， 所述凸块A等距离排列分布， 凸块B等距离排列分布， 凸块A与凸块B 靠近的 一端为弧形 结构。 [0010]优选的， 所述转轴与罐体垂直， 转轴与罐体的转动连接处安装有轴承， 两个转轴对说　明　书 1/3 页 3 CN 216910253 U 3