(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123382813.6 (22)申请日 2021.12.2 9 (73)专利权人 至微半导体 （上海） 有限公司 地址 200241 上海市闵行区紫海路170号1 幢3层03室 (72)发明人 邓信甫　黄茂烘　池玟霆　张九勤　 (74)专利代理 机构 上海申新 律师事务所 31272 专利代理师 竺路玲 (51)Int.Cl. B08B 13/00(2006.01) B08B 3/02(2006.01) H01L 21/67(2006.01) (54)实用新型名称 一种单晶圆清洗装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种单晶圆清洗装置， 包 括： 基座； 支撑机构， 支撑机构安装于基座上； 承 载台， 承载台安装于支撑机构上； 若干分流环， 若 干分流环由上至下依次设置， 每一分流环的内侧 均形成有一回收槽， 回收槽可操作地正对晶圆片 的边缘设置； 若干升降装置， 每一升降装置均与 一分流环连接， 每一升降装置均用于驱动一分流 环的升降； 清洗装置， 清洗装置的输出端设置于 承载台的正上方， 清洗装置的输出端正对晶圆片 的上表面设置。 通过对本实用新型的应用， 在若 干可升降的分流环的配合下使得晶圆表面甩出 的不同的清洗液可以被回收至对应的回收槽内， 再通过对应的液体回收装置做收集 以便于生产 人员可以在保持较低成本的基础上对不同的清 洗液进行回收处 理。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 217121196 U 2022.08.05 CN 217121196 U 1.一种单晶圆清洗装置， 其特 征在于， 包括： 基座； 支撑机构， 所述支撑 机构安装于所述基座上； 承载台， 所述承载台安装于所述支撑 机构上， 所述承载台上 可操作地 放置有晶圆片； 若干分流环， 若干所述分流环由上至下依次设置， 每一所述分流环的内侧均形成有一 回收槽， 所述回收槽可操作地 正对所述晶圆片的边 缘设置； 若干升降装置， 每一所述升降装置均与一所述分流环连接， 每一所述升降装置均用于 驱动一所述分流环的升降； 清洗装置， 所述清洗装置的输出端设置于所述承载台的正上方， 所述清洗装置的输出 端正对所述晶圆片的上表面设置 。 2.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 还包括： 容置仓， 所述容置仓设 置于所述基座上， 若干所述分流环均设置 于所述容置仓内。 3.根据权利要求2所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述容置仓的上端形成有一敞 开口， 所述敞开口正对所述承载台设置 。 4.根据权利要求3所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述敞开口的内缘向内倾斜向 上延伸形成有一遮挡壁。 5.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 每一所述回收槽均呈环形设 置。 6.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 每一所述 回收槽的内侧均 形成 有由上至下依 次连接的第一遮挡面、 第二遮挡面和第三遮挡面， 所述第一遮挡面向内倾斜 向上设置， 所述第三遮挡面向内倾 斜向上设置 。 7.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 还包括： 若干收集管和若干液 体回收装置， 每一所述回收槽的底部均设置有至少一回收口， 每一所述回收口均与一收集 管的一端连接， 每一所述收集管的另一端均 与一所述液体回收装置连接 。 8.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述清洗装置包括： 清洗架、 管 架、 管组、 喷头和清洗液供给装置， 所述清洗架沿竖直方向设置， 所述清洗架的下端设置于 所述基座的一侧， 所述清洗架的上端与所述管架的一端连接， 所述管架沿水平方向设置， 所 述管架的另一端与所述喷头连接， 所述管架上设置有所述管组， 所述管组的一端与所述喷 头连接， 所述管组的另一端与所述清洗液 供给装置连接 。 9.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述基座上设置有一废液排出 口。 10.根据权利要求1所述的单晶圆清洗装置， 其特征在于， 所述支撑机构内设置有一旋 转机构， 所述旋转机构的输出端与所述承载台的下表面固定连接， 所述旋转机构用于驱动 所述承载台的转动。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217121196 U 2一种单晶圆清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及晶圆清洗技 术领域， 尤其涉及一种单晶圆清洗装置 。 背景技术 [0002]目前， 在晶圆生产行业中能否良好完成晶圆的清洗工作对于晶圆产品的质量而言 尤为重要， 一般情况下， 会将单片的晶圆放置于相应的清洗腔中并通过喷嘴等对晶圆的表 面喷洒化学清洗液等， 同时驱动整个晶圆做旋转使得晶圆的表面上的清洗液能够扩散均匀 从而实现较为良好的清洗工作。 然而， 现有的清洗腔往往难以满足实际使用需求， 通常清洗 腔为一体式结构， 由晶圆表面甩出 的清洗液难以进行分类回收或处理， 增大了晶圆的清洗 成本。 实用新型内容 [0003]有鉴于此， 为解决上述问题， 本 实用新型的目的在于提供一种单晶圆清洗装置， 包 括： [0004]基座； [0005]支撑机构， 所述支撑 机构安装于所述基座上； [0006]承载台， 所述承载台安装于所述支撑机构上， 所述承载台上可操作地放置有晶圆 片； [0007]若干分流环， 若干所述分流环由上至下依次设置， 每一所述分流环的内侧均形成 有一回收槽， 所述回收槽可操作地 正对所述晶圆片的边 缘设置； [0008]若干升降装置， 每一所述升降装置均与一所述分流环连接， 每一所述升降装置均 用于驱动一所述分流环的升降； [0009]清洗装置， 所述清洗装置 的输出端设置于所述承载台的正上方， 所述清洗装置的 输出端正对所述晶圆片的上表面设置 。 [0010]在另一个优选 的实施例中， 还包括： 容置仓， 所述容置仓设置于所述基座上， 若干 所述分流环均设置 于所述容置仓内。 [0011]在另一个优选 的实施例中， 所述容置仓 的上端形成有一敞开口， 所述敞开口正对 所述承载台设置 。 [0012]在另一个优选的实施例中， 所述敞开口的内缘向内倾斜向上延伸形成有一遮挡 壁。 [0013]在另一个优选的实施例中， 每一所述回收槽均呈环形设置 。 [0014]在另一个优选的实施例中， 每一所述回收槽的内侧均形成有由上至下依次连接的 第一遮挡面、 第二遮挡面和第三遮挡面， 所述第一遮挡面向内倾斜向上设置， 所述第三遮挡 面向内倾 斜向上设置 。 [0015]在另一个优选的实施例中， 还包括： 若干收集管和若干液体回收装置， 每一所述回 收槽的底部均设置有至少一回收口， 每一所述回收口均与一收集管 的一端连接， 每一所述说　明　书 1/4 页 3 CN 217121196 U 3